让中国光刻机“变成废铁”，日本对华下狠手，做得比美国人还绝？
当全世界的目光都聚焦在美国对华EUV光刻机的禁售上时，日本却用了一系列手段，试图让中国芯片厂里上千台正在运转的DUV光刻机，一步步走向“废铁”的命运。这并非危言耸听。
想象一个场景：国内某家顶尖晶圆厂，一台价值数亿美元的尼康或佳能浸没式DUV光刻机突然停摆，产线瞬间停滞。
工程师排查后发现，只是一个关键的激光器组件寿命到期。
在过去，这不过是打个电话、发封邮件，日本原厂的备件和工程师很快就会到位。
日本厂商，如东京威力科创（TEL），切断了对中国客户的远程技术支持。
但现在，申请流程被无限期拖延，得到的回复永远是“正在审查”。
这意味着，一旦设备软件出现故障或需要参数调试，中国的工程师们只能干瞪眼，生产线停摆的时间被无限拉长。
更致命的是硬件上的卡脖子。当中国企业为正在服役的尼康、佳能DUV光刻机申请更换激光器等关键备件时，原本的备案制审批，突然变成了逐案严审。
这个“严审”，实际上就是无限期的拖延。没有了原厂的备件和技术服务，这些单台价值数亿美元的精密仪器，其良率会断崖式下滑，生产成本急剧飙升。
从经济效益上看，这等于直接宣判了这些设备的“报废”。一台无法稳定生产、良率低下的光刻机，对芯片厂而言，不再是印钞机，而是一个吞噬利润的黑洞，是产线上最昂贵的“路障”。
此举精准打击了支撑中国汽车、消费电子等国民经济支柱的28纳米及以上成熟制程。
如果说设备维保是掐住了脖子，那么材料管制就是断绝了口粮。光刻胶，这个被比作光刻机这台“打印机”的“墨水”、半导体制造“血液”的关键材料，成了日本的另一张王牌。
日本企业，如信越化学、JSR和东京应化（TOK），几乎垄断了全球高端光刻胶市场，ArF和EUV光刻胶的份额接近百分之百，即便是整体市场，也占据了七成以上。
从2023年6月起，这把刀也开始落下。信越化学以“原材料供应不稳”为由，暂停向部分中国企业供应KrF光刻胶。
日本政府同样没有发布明面上的禁令，而是通过延长审批流程、要求企业签署极其苛刻的“最终用途”承诺书等方式，制造出巨大的供应不确定性。
你封锁，我全链条替代！日本企业很快就感受到了这股反噬的力量。中国曾是它们最大的市场，是名副其实的“金主”。禁令之前，中国市场贡献了尼康光刻机业务近三成的营收。
禁令生效后，寒意迅速传导至企业财报。尼康和TEL在华的订单与营收双双萎缩。到了2024年下半年，材料巨头JSR的对华营收直接下降了22%，而另一家巨头TOK更是遭遇了十年来首次亏损。
东京威力科创的一位高管在接受采访时坦言，失去部分中国市场，相当于公司“失去了一条腿”。这句无奈的表白，揭示了这场政治豪赌背后的巨大经济代价。
日本行业协会的预测更为悲观：一旦中国实现了完全的国产替代，日本企业将可能失去超过40%的全球市场份额。
这种“自损八百”的策略，不仅让日本企业流血，更意外地为对手的自主化进程狠狠踩下了一脚油门。外部的极限封锁，如同一盆冷水，彻底浇醒了国内部分企业“造不如买”的幻想。
原本按部就班，预计需要5到8年才能走完的国产替代之路，被强行压缩到了3到5年。华为明确喊出“全链条替代”的目标，连宁德时代这样的下游巨头也开始向上游的半导体材料领域投资。
产业链的每一个环节都意识到，将身家性命寄托于他人的善意，无异于与虎谋皮。市场也迅速做出反应，国内企业疯狂囤货，一度导致光刻胶价格上涨了30%。
日本忘了那失去的30年了？它不仅是地缘政治的站队，更像是一场历史的重演——昔日被霸凌的受害者，如今正以惊人相似的手段，试图在别人身上复刻自己曾经的悲剧。
1980年代，彼时的日本半导体产业如日中天，全球份额一度超过50%，让美国感到了前所未有的威胁。
随后，美国的“绞杀”大戏上演。从发起“301调查”，到对日本产品征收100%的反倾销税，再到联合欧洲建立技术封锁联盟，最后逼迫日本签署不平等的《美日半导体协定》。
一套组合拳下来，日本半导体产业的脊梁被彻底打断。
其全球份额从巅峰跌落至不足10%，从此一蹶不振，陷入了“失去的三十年”。
当年被美国用技术霸权扼住咽喉的日本，如今却摇身一变，成了对华技术遏制的急先锋，扮演起了当年美国那个扼制者的角色。
这种角色的转换，深刻揭示了国际产业竞争中“技术附庸”的悲剧循环。这也从反面解释了，为何中国必须不惜一切代价打破这种循环。
因为历史已经用日本的惨痛教训证明，依赖他人的技术施舍，最终的结局只能是任人宰割。
面对这把“软刀子”的持续切割，中国并没有坐以待毙一场在“新型举国体制”驱动下的绝地反击战，以前所未有的速度和规模打响了。其目标，不再是修修补补，而是被迫构建一个独立于现有全球体系之外的、全链条的半导体生态系统。
从《“十四五”原材料工业发展规划》等文件的顶层设计，到政府牵头的产业基金在2024年向光刻胶、核心零件等领域砸下超过200亿元的真金白银，再到为相关企业提供“两免三减半”的所得税优惠，国家意志以前所未有的力度，为这场艰苦的技术攻坚战提供了制度与资金的双重保障。
艰难的突破正在发生。在硬件端，上海微电子（SMEE）研发的28纳米浸没式光刻机，其样机已于2024年底交付客户验证，这标志着从0到1的里程碑式跨越。
虽然在稳定性、生产效率上与ASML、尼康等六巨头相比仍有明显差距，但这扇门毕竟被推开了一条缝。
在材料端，南大光电的ArF光刻胶产品通过了中芯国际等头部企业的验证，开始在14纳米以上制程的非关键层实现小批量供应。而技术门槛稍低的KrF光刻胶，晶瑞电材、北京科华（BKM）等企业则已实现批量供货。
当然，现实的差距依然巨大。目前国内高端芯片生产超过90%仍依赖进口光刻机，光刻胶整体国产化率虽达到25%，但真正用于半导体制造的高端产品自给率仅有8%。
更严峻的挑战来自人才，那种能够带领团队攻克难关、横跨化学、材料、机械、电子等多学科的复合型领军人物，依然极度稀缺。
为此，高校纷纷开设相关专业，企业则通过股权激励留住核心骨干，一场全社会的人才争夺战与培养计划也已全面展开。
与此同时，中国也开始亮出自己的博弈筹码。2023年7月，对镓、锗两种关键金属材料的出口管制正式启动。
外媒说日本比美国还绝，短期看确实给咱们添了麻烦，但往远了说，这股狠劲反倒断了咱们对外国技术的念想，逼着咱们自己闯出条自主创新的路。
日本的“软刀子”依然悬在头顶，但中国手中“备胎”转正的盾牌也已初步铸就。
等哪天咱们的光刻胶、光刻机全实现国产化了，再回头看今天这坎儿，说不定还得谢谢日本这波 “狠手”。
毕竟真本事从来不是别人给的，都是在绝境里硬生生逼出来的。
参考资料：
晶片大战：日本荷兰限制对华晶片技术出口，光刻机巨头进一步面临两难
2023年1月30日 BBC中文
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