光刻机需求或高于ASML预期：估计2027年将托付10台High

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随着野生智能（AI）浪潮带动了芯片产业的成长，投资机构对ASML产物的持久需求仍连结悲观，由于这些芯片普遍采用最新的半导体制造技术。虽然很多芯片制造商都延后引入新一代High-NA EUV，可是从整体来看，市场对光刻装备的需求仍处于上升趋向。

据Techpowerup报道，克日ASML暗示，按照今朝的定单信息和需求，估计2027年将托付10台High-NA EUV和56台EUV光刻机。其中英特尔和三星比来都进步了光刻机的定单量，英特尔将High-NA EUV的订购数目从1台进步到2台，EUV的订购数目从3台进步到5台，别的三星也将EUV的订购数目从5台进步到7台。
值得留意的还有SK海力士，2027年ASML要托付的EUV光刻机里占了20台，同时也将High-NA EUV的订购数目从1台进步到2台。此外，传闻SK海力士计划在未来两年内安装好20台EUV光刻机，全数是为了HBM及先辈存储处理计划设想。
虽然英特尔极能够是首个在量产上引入High-NA EUV光刻技术的芯片制造商，不外三星和SK海力士正在迎头遇上。出格是SK海力士，以今朝的产能扩大速度需要更多的厂房，为安装光刻机留有充足的空间。