EUV 光刻胶市场将从2026年起快速增加

[db:作者]

本文由半导体产业纵横（ID：ICVIEWS）综合
光刻胶工场和半导体器件工场利用的“光刻胶”市场范围将在2024年到达1425亿日元，2025年到达1523亿日元。

富士经济于2025年8月对半导体制造工序中利用的“液体过滤器”的全球市场停止了观察，并公布了停止2030年的猜测。观察显现，估计2025年市场范围将到达3659亿日元，2030年将到达5260亿日元。估计市场范围将延续扩大，特别是光刻胶市场。
本次观察的工具为半导体装备工场、半导体材料工场以及半导体材料原材料生产工场，用于分手和去除杂质的液体过滤器。观察时候为2025年5月至6月。
2024年，由于PC等终端产物需求低迷，以及此前出现缺货的半导体制造装备制造商库存过剩，致使新增需求障碍，市场范围仅为3451亿日元，较上一年略有增加。
估计2025年，随着过剩库存的消除，野生智能和数据中心对先辈半导体器件的需求将扩大，其市场范围将比上一年增加6.0%，到达3659亿日元。估计从2026年起，用于制造先辈半导体器件的EUV光刻胶需求将快速增加，到2030年将到达5260亿日元。

半导体制造工艺中利用的液体过滤器的全球市场。来历：富士经济
从各地域液体过滤器市场来看，中国约占25%。中国正努力于半导体器件的国产化，估计需求将延续增加。具有庞大市场的中国台湾和韩国的需求也有望扩大。受国家政策影响，北美地域对半导体相关工场的投资正在增加，估计持久远景也将看好。
研讨职员还观察了按用处分别的液体过滤器市场。估计光刻胶工场和半导体器件工场利用的“光刻胶”市场范围将在2024年到达1425亿日元，2025年到达1523亿日元，较上一年增加6.9%。估计EUV光刻胶未来将大幅增加。
光刻胶，又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的薄膜材料，首要由具有光敏化学感化的高份子聚合物材料及其他成份组成。在紫外线、准份子激光、电子束、离子束或 X 射线等辐射下，其消融度会急剧变化。
光刻胶在集成电路制造中的利用处景触及多个关键步调。首先，经过扭转涂胶的方式在晶圆概况均匀涂抹光刻胶，随落后行曝光处置，将掩模（Mask）上的图案转移到光刻胶上。接着，在显影液的感化下，与掩模图案分歧的图形得以显现。以后，经过蚀刻工艺，去除不需要的光刻胶，庇护层下的材料被精准刻蚀，构成所需的微细结构。随后，停止去胶处置，断根残留的光刻胶。在分散剂和高温烘烤下构成半导体场，再经过铝线或铜线构成电路及绝缘膜。最初，经过不竭反复上述步调，终极构成完整的集成电路。这一系列紧密操纵确保了集成电路的高效生产和高性能表示。
在全部半导体晶圆制造材料的代价占比中，光刻胶及其帮助材推测达了 12%，位列第四泰半导体材料。而且光刻工艺的本钱约占全部硅片制造工艺的三分之一，而光刻胶材料总本钱则占全部制造本钱的 5 - 6% 左右，足见其在半导体产业中的重要职位。也是以，光刻胶对于半导体产业来说，具有不成替换的重要性。从技术成长趋历来看，随着半导体技术向更小尺寸、更高性能的偏向不竭迈进，光刻胶技术也在延续创新和升级。
在全球光刻胶市场中，合作格式显现出高度集合的态势。今朝，全球光刻胶市场首要被日本、美国和欧洲的少数几家大型企业所主导。其中，日本企业在光刻胶范畴的技术气力和市场份额方面表示尤其突出，东京应化（TOK）、JSR、信越化学、住友化学等日本企业在全球光刻胶市场中占据侧重要职位，它们凭仗着持久的技术堆集、严酷的质量控制和完善的客户办事系统，在高端光刻胶市场上具有较高的市场占有率。
此外，化学制造工场和半导体器件工场利用的“清洗液和枯燥液”市场范围估计将从2024年的603亿日元增加6.3%，到达2025年的641亿日元。半导体器件工场和半导体材料工场利用的“纯水和超纯水”市场范围估计将从2024年的329亿日元增加4.9%，到达2025年的345亿日元。
*声明：本文系原作者创作。文章内容系其小我概念，我方转载仅为分享预会商，不代表我方赞成或认同，若有异议，请联系背景。
想要获得半导体产业的前沿洞见、技术速递、趋向剖析，关注我们！